| 发明名称 | 引线框架及其制造方法和受光发光装置 | ||
| 摘要 | 提供了在长期使用的情况下也能抑制特性劣化的引线框架及其制造方法以及受光发光装置。本发明的引线框架具有：基体材料；在基体材料的一部分上形成的反射层；以及，至少设置在反射层上并覆盖反射层的特性维持层，该特性维持层将反射层与外部隔绝，从而维持反射层的特性。 | ||
| 申请公布号 | CN101452904A | 申请公布日期 | 2009.06.10 |
| 申请号 | CN200810181655.8 | 申请日期 | 2008.12.02 |
| 申请人 | 日立电线精密株式会社;御田护 | 发明人 | 川野边直;大沼雄悦;御田护 |
| 分类号 | H01L23/495(2006.01)I;H01L21/48(2006.01)I;H01L33/00(2006.01)I;H01L31/02(2006.01)I;H01L31/0203(2006.01)I | 主分类号 | H01L23/495(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人 | 葛松生 |
| 主权项 | 1. 引线框架，其特征在于，该引线框架具有：基体材料；在该基体材料的一部分上形成的反射层；以及，至少设置在所述反射层上并覆盖该反射层的特性维持层，该特性维持层将所述反射层与外部隔绝，从而维持所述反射层的特性。 | ||
| 地址 | 日本茨城县 | ||