发明名称 |
光刻设备、控制系统及器件制造方法 |
摘要 |
一种光刻设备,包含:照明系统,配置成提供辐射束;支撑物,配置成支持图形化装置,该图形化装置配置成向射束截面传递图形;衬底平台,配置成支撑衬底;投影系统,配置成把图形化的射束投影到衬底的目标部分上;测量系统,配置成产生信息信号,该信息信号包含与图形化装置、衬底、投影系统以及其中部件中的至少一个的位置相关的信息;以及控制所述位置的控制系统。 |
申请公布号 |
CN100498536C |
申请公布日期 |
2009.06.10 |
申请号 |
CN200510064168.X |
申请日期 |
2005.04.13 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
H·布特勒 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
王波波 |
主权项 |
1. 一种光刻设备,包含:照明系统,配置成提供辐射束;支撑物,配置成支持图形化装置,该图形化装置配置成向辐射束截面传递图形;衬底平台,配置成支撑衬底;投影系统,配置成把图形化的辐射束投影到衬底的目标部分上;测量系统,配置成产生信息信号,该信息信号包含与图形化装置、或衬底、或投影系统、或该投影系统的部件、或前述所列各项的任何组合的位置相关的信息;以及控制系统,配置成把该信息信号变换为代表该光刻设备的成像特征的至少一个自然反馈信号,所述控制系统设置成基于自然设定点信号和该自然反馈信号产生控制信号,该控制系统基于该控制信号控制所述位置。 |
地址 |
荷兰维尔德霍芬 |