将部件成像到晶片上的方法和用于成像晶芯的掩膜组

摘要

公开了一种光刻方法，该方法使用多次曝光来减小规则布置的部件的最小栅格间距。选择期望的栅格间距以便使由在版图期间使用栅格约束而引起的电路面积的增长最小化。将期望的栅格分解成至少两个交替的掩模栅格，该掩模栅格具有大于所期望的栅格间距的掩模栅格间距。曝光每个掩模栅格以印刷部分所期望的栅格，直到将完整的期望栅格印刷到晶芯上。

主权项

1.一种将部件成像到晶片上的方法，包括：形成具有栅格间距的栅格；在栅格上布置多个实际部件；制作一个掩模，该掩模包括多个实际部件和多个辅助部件，该辅助部件是筛选过的以便使它们在允许优化照明的同时不印刷；以及将实际部件成像到晶片上，其中两个相邻的实际部件之间的距离不小于单次曝光光刻的最小间距，以及两个相邻的辅助部件之间或一个实际部件和一个相邻的辅助部件之间的距离小于单次曝光光刻的最小间距，其中两个相邻的实际部件之间、两个相邻的辅助部件之间的对角线距离、或与辅助部件相邻的实际部件的对角线距离具有的距离，其中p_x是两个相邻的辅助部件之间、两个相邻的实际部件之间、或实际部件与相邻辅助部件之间在x方向上的间距，以及p_y是两个相邻的辅助部件之间、两个相邻的实际部件之间、或实际部件与相邻辅助部件之间在x方向的垂直方向上的间距。