| 发明名称 |
纳米SiO<sub>2</sub>/PMMA的合成方法 |
| 摘要 |
本发明公开一种纳米SiO<sub>2</sub>/PMMA的合成方法，包括有如下阶段：第一阶段：合成PMMA；第二阶段：以无机SiO<sub>2</sub>颗粒为反应器，并对其进行处理；第三阶段：使用第一步和第二步的结果制备纳米SiO<sub>2</sub>/PMMA。本发明的纳米SiO<sub>2</sub>/PMMA的合成方法，通过乳液聚合制备以纳米SiO<sub>2</sub>为核，MMA为壳层单体的复合物，使单体贯穿在微孔之中，并研究乳液聚合的规律及其在PP中的应用。 |
| 申请公布号 |
CN101450973A |
申请公布日期 |
2009.06.10 |
| 申请号 |
CN200710150521.5 |
申请日期 |
2007.11.28 |
| 申请人 |
郭晴晴 |
发明人 |
郭晴晴;陈秀敏 |
| 分类号 |
C08F2/44(2006.01)I;C08F120/14(2006.01)I;C08F2/22(2006.01)I;C08F6/14(2006.01)I |
主分类号 |
C08F2/44(2006.01)I |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
1. 一种纳米SiO2/PMMA的合成方法，其特征在于，包括有如下阶段：第一阶段：合成PMMA；第二阶段：以无机SiO2颗粒为反应器，并对其进行处理；第三阶段：使用第一步和第二步的结果制备纳米SiO2/PMMA。 |
| 地址 |
300384天津市西青区津静公路26号天津城市建设学院团委 |
