发明名称 |
改善SRAM匹配度的方法 |
摘要 |
一种改善SRAM匹配度的方法,包括,测量根据SRAM布图形成的SRAM中的一对对称MOS管的电性参数;根据所述电性参数判断所述对称MOS管是否匹配,若所述对称MOS管不匹配,则改变不匹配的MOS管中与所测量的电性参数相关的布图特征量,并重复上述步骤直到所述对称MOS管匹配。所述改善SRAM匹配度的方法通过改变所述不匹配管的电学性能,从而改善SRAM的匹配度。 |
申请公布号 |
CN101452742A |
申请公布日期 |
2009.06.10 |
申请号 |
CN200710094402.2 |
申请日期 |
2007.12.07 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
黄艳;黄威森 |
分类号 |
G11C11/417(2006.01)I;G11C29/00(2006.01)I |
主分类号 |
G11C11/417(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 |
代理人 |
逯长明 |
主权项 |
1. 一种改善SRAM匹配度的方法,其特征在于,包括下列步骤,测量根据SRAM布图形成的SRAM中的一对对称MOS管的电性参数;根据所述电性参数判断所述对称MOS管是否匹配,若所述对称MOS管不匹配,则改变不匹配的MOS管中与所测量的电性参数相关的布图特征量,并重复上述步骤直到所述对称MOS管匹配。 |
地址 |
201203上海市浦东新区张江路18号 |