发明名称 |
晶闸管、专用于制造晶闸管的芯片及其制造方法 |
摘要 |
本发明公开了晶闸管、专用于制造晶闸管的芯片及其制造方法,晶闸管由外壳、芯片、引出线几部分组成,芯片包括长基区N、短基区P、隔离墙,N<sup>+</sup>区,P<sup>+</sup>区,槽型钝化台面,在隔离墙设有垂直穿通的激光孔,激光孔的直径小于200μm,激光孔的间距40-400μm。本发明因为在隔离墙上设有激光孔,加快了隔离墙扩散速度和深度,可以使隔离墙纵深部分做的比较厚,从而长基区可以做长,做到200-600μm,芯片的耐压提高,125℃高温时漏电流减小,性能稳定。由于采用激光穿孔隔离墙扩散工艺制造晶闸管芯片,加快了隔离墙扩散速度,节省了能源,生产周期短,生产效率高,原材料硅片的利用率高,适合规模化生产。 |
申请公布号 |
CN100499160C |
申请公布日期 |
2009.06.10 |
申请号 |
CN200410065393.0 |
申请日期 |
2004.11.30 |
申请人 |
安徽省祁门县黄山电器有限责任公司 |
发明人 |
王日新 |
分类号 |
H01L29/74(2006.01)I;H01L21/332(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/74(2006.01)I |
代理机构 |
芜湖安汇知识产权代理有限公司 |
代理人 |
徐 晖 |
主权项 |
1、一种晶闸管,晶闸管由外壳、芯片、引出线三部分组成,芯片包括长基区N、短基区P1、P2,隔离墙,磷扩散区N+,浓硼扩散区P+,槽型钝化台面,芯片中间为长基区N,上为短基区P2、下为短基区P1,周边设有隔离墙,磷扩散区N+设在短基区P2上,阴极K设在磷扩散区N+上,浓硼扩散区P+,设在短基区P1上,阳极A设在浓硼扩散区P+上,槽型钝化台面设在短基区P2与隔离墙之间,其特征在于:在隔离墙平面上设有垂直穿通的激光孔,激光孔的直径小于200μm,激光孔的间距40-400μm。 |
地址 |
245600安徽省祁门县新兴路449号 |