| 摘要 |
Es wird ein Verfahren zur Herstellung einer wischfesten Antireflexionsschicht auf einem Borosilicatglaskörper beschrieben, bei dem eine Beschichtungslösung mit einer Zusammensetzung von 1-6 Gew.-% HCI, 0,5-7 Gew.-% SiO2 - Sol (Feststoffanteil), 0,5-5 Gew.-% H2O, 85-98 Gew.-% leichtflüchtiges wasserlösliches organisches Lösungsmittel zur Anwendung kommt. Ein zur Beschichtung geeignetes Glas enthält (in Gew.-% auf Oxidbasis) 63-76 SiO2, > 11-20 B2O3, 1-9 Al2O3, 3-12 Alkalioxid(e), 0-10 Erdalkalioxid(e), 0-2 ZnO, 0-5 TiO2, 0-1 ZrO2, 0-1 Nb2O5, 0-1 WO3.
|
