| 发明名称 | 预处理的光学镀膜材的处理方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种预处理的光学镀膜材料及其预处理方法。该方法包括：(1)选用光学镀膜材料的原料粉体；(2)在温度为700～1400℃，压力为10～40MPa条件下制备素坯；(3)在高温烧结炉中烧结，在烧结温度900～1800℃条件下恒温烧结2～4小时，制备坯体；(4)将坯体严格按照镀膜机坩埚的尺寸加工成型；(5)在还原气氛炉中，在温度为1000～1700℃条件下，进行脱气处理2～6小时，即为预处理的光学镀膜材料。所得到TiO<sub>2</sub>预处理的光学镀膜材料，其相对密度达到99％，氧含量为39.8％，失氧率为6％，按化学计量拟合其分子式为TiO<sub>1.979</sub>。预处理的光学镀膜材料具有以下特点：1)高度致密化，相对密度达到90％以上，有些接近材料的理论密度；2)对于高折射率氧化物光学镀膜材料，通过本发明的工艺方法进行特定处理失去部分晶格氧。 | ||
| 申请公布号 | CN100497721C | 申请公布日期 | 2009.06.10 |
| 申请号 | CN200510109269.4 | 申请日期 | 2005.10.20 |
| 申请人 | 北京有色金属研究总院 | 发明人 | 王星明;储茂有;段华英;黄松涛;张碧田;邓世斌;张明贤;龚述荣;潘德明 |
| 分类号 | C23C14/08(2006.01)I;C23C14/02(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/08(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 | 代理人 | 程凤儒 |
| 主权项 | 1、一种制备预处理二氧化钛或五氧化二钽光学镀膜材料的预处理方法，其特征在于：该方法包括下述步骤：(1)、选用二氧化钛或五氧化二钽为原料粉体，所述的原料粉体的纯度为99.9％～99.99％，其粒度D50为1-50μm；(2)、将上述原料粉体在温度为700～1400℃，压力为10～40Mpa条件下，真空热压成型制备素坯，素坯相对密度控制在80％～99％；(3)将上述制备的素坯在高温烧结炉中烧结，在烧结温度900～1800℃条件下恒温烧结2～4小时，制备坯体；(4)、将坯体严格按照镀膜机坩埚的尺寸加工成型；(5)、在还原气氛炉中，在温度为1000～1700℃条件下，对上述坯体进行脱气处理2～6小时，经过上述处理后所得到的材料即为预处理二氧化钛或五氧化二钽光学镀膜材料。 | ||
| 地址 | 100088北京市新街口外大街2号 | ||