| 发明名称 | 无氟化物的光致抗蚀剂剥离剂或残余物移除清洁组合物及用其清洁微电子基板的方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及无氟化物的光致抗蚀剂剥离剂或残余物移除清洁组合物及用其清洁微电子基板的方法。无氟的有机溶剂基的微电子清洁制剂，其包括：(a)至少一种“黄色”或“褐色”的α-羟基羰基共轭物，其是α-羟基羰基化合物与胺或铵化合物的寡聚或多聚共轭物，(b)至少一种游离胺，和(c)至少一种有机溶剂或者至少一种有机溶剂和水。该制剂还可以包含其它任选的成分，包括(d)至少一种无金属离子的碱，其量足以使最终组合物的pH为7或更高，优选pH为约9.5至约10.8，和一种或多种(e)多羟基醇，(f)金属螯合剂，和(g)表面活性剂。该组合物用于清洁微电子设备，而没有任何明显的金属腐蚀，且与ILDs兼容。 | ||
| 申请公布号 | CN101452226A | 申请公布日期 | 2009.06.10 |
| 申请号 | CN200810095960.5 | 申请日期 | 2008.04.30 |
| 申请人 | 马林克罗特贝克公司 | 发明人 | 稻冈诚二;威廉·R·格米尔 |
| 分类号 | G03F7/42(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/42(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 张平元 |
| 主权项 | 1. 无氟化物的微电子清洁组合物，其包括：(a)至少一种“褐色”或“黄色”的α-羟基羰基化合物与胺或铵化合物的寡聚或多聚共轭物，(b)至少一种胺，和(c)至少一种有机的可与水混溶的有机溶剂或者至少一种可与水混溶的有机溶剂和水。 | ||
| 地址 | 美国新泽西州 | ||