发明名称 一种非挥发性存储元件及其制备方法
摘要 本发明公开了一种非挥发性存储元件,由Mg<sub>x</sub>Zn<sub>1-x</sub>O薄膜及其上下表面的Pt电极构成三明治结构的Mg<sub>x</sub>Zn<sub>1-x</sub>O薄膜非挥发性存储元件,其中x=0.6或0.8或1。本发明还公开了上述非挥发性存储元件的制备方法,包括以下步骤:制备Mg<sub>x</sub>Zn<sub>1-x</sub>O前驱液;在Pt底电极上制备Mg<sub>x</sub>Zn<sub>1-x</sub>O薄膜;上述Mg<sub>x</sub>Zn<sub>1-x</sub>O薄膜在650℃下退火,然后冷却到室温;将上述经热处理后的Mg<sub>x</sub>Zn<sub>1-x</sub>O薄膜上表面镀Pt电极,构成三明治结构的Mg<sub>x</sub>Zn<sub>1-x</sub>O非挥发性存储器件。本发明提供的Mg<sub>x</sub>Zn<sub>1-x</sub>O非挥发性存储器件,其高阻、低阻比值更大,达到10<sup>7</sup>至10<sup>9</sup>,有利于提高器件的信噪比,改善器件性能,并简化存储态读出过程,具有广阔的应用前景。
申请公布号 CN101452994A 申请公布日期 2009.06.10
申请号 CN200810199124.1 申请日期 2008.10.14
申请人 中山大学 发明人 包定华;陈心满
分类号 H01L45/00(2006.01)I;G11C16/02(2006.01)I;G11C11/56(2006.01)I 主分类号 H01L45/00(2006.01)I
代理机构 广州粤高专利代理有限公司 代理人 陈 卫
主权项 1. 一种非挥发性存储元件,其特征在于由MgxZn1-xO薄膜及其上下表面的Pt电极构成三明治结构的MgxZn1-xO薄膜非挥发性存储元件,其中x=0.6或0.8或1。
地址 510275广东省广州市海珠区新港西路135号