一种监测聚酰亚胺的曝光阈值的方法

摘要

本发明提供了一种监测聚酰亚胺的曝光阈值的方法，包括以下步骤：步骤1，在晶片上涂覆聚酰亚胺；步骤2，对聚酰亚胺层分别用不同的显影时间进行显影，用以测定待检测晶片表面是否剩余有聚酰亚胺；步骤3，利用膜厚量测装置再测定待检测晶片的表面是否剩余有聚酰亚胺，如有剩余聚酰亚胺，则测定聚酰亚胺残留的厚度，从而获得最小聚酰亚胺的曝光阈值。本发明的有益效果在于，通过对聚酰亚胺曝光阈值进行双重监测，即可以量化监测结果，避免原有的目视人为判断失误，可以保存量化的量测结果，以便进行统计制程控制，更准确地得到聚酰亚胺的曝光阈值。

主权项

1. 一种监测聚酰亚胺的曝光阈值的方法，其特征在于包括以下步骤：步骤1，在晶片上涂覆聚酰亚胺；步骤2，对聚酰亚胺层分别用不同的显影时间进行显影，用以测定待检测晶片表面是否剩余有聚酰亚胺；步骤3，利用膜厚量测装置再测定待检测晶片的表面是否剩余有聚酰亚胺，如有剩余聚酰亚胺，则测定聚酰亚胺残留的厚度，从而获得最小聚酰亚胺的曝光阈值。