发明名称 |
蚀刻反应槽 |
摘要 |
本发明公开一种蚀刻反应槽,该蚀刻反应槽包括一蚀刻反应腔一蚀刻液输送管道和一蚀刻液出口。其中,该蚀刻反应槽的底面上具有多个突起。 |
申请公布号 |
CN100499964C |
申请公布日期 |
2009.06.10 |
申请号 |
CN200410027780.5 |
申请日期 |
2004.06.19 |
申请人 |
鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;群创光电股份有限公司 |
发明人 |
陈青枫;黄荣龙;黄昌桂;欧振宪;黄志鸿;高胜洲 |
分类号 |
H05K3/06(2006.01)I |
主分类号 |
H05K3/06(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
1. 一种蚀刻反应槽,其包括一蚀刻液输送管道、一蚀刻液出口和一蚀刻反应腔,该蚀刻反应腔由该蚀刻反应槽的侧面与底面合围而成,该蚀刻液输送管道与该蚀刻反应槽底面相连接,该蚀刻液出口设置在该蚀刻反应腔底部的正中位置,用于反应的蚀刻液通过该蚀刻液输送管道而从该蚀刻液出口进入该蚀刻反应腔中,其特征在于:该蚀刻反应槽的底面上具有多个突起。 |
地址 |
518109广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号 |