发明名称 | 基于典型相关分析的2维矢量图的数字水印保护方法 | ||
摘要 | 本发明涉及一种基于典型相关分析的2维矢量图的数字水印保护方法。本发明在分析目前矢量图水印算法在抗攻击方面的不足的基础上,依据典型相关分析的特点,将其引入到数字水印技术中。包含两个实施步骤:在水印的嵌入阶段采用了在通过典型相关分析得到的典型相关变量上利用DFT域算法嵌入水印的方案;在检测阶段,依据典型相关分析典型相关变量的仿射不变特性和统计特性对水印进行相关检测,最终判定是否含有水印。本发明的方法能够抵抗各种几何攻击、加燥滤波、改变起始点和它们的综合攻击。 | ||
申请公布号 | CN101447070A | 申请公布日期 | 2009.06.03 |
申请号 | CN200810203997.5 | 申请日期 | 2008.12.04 |
申请人 | 上海大学 | 发明人 | 陈欢;孙广玲 |
分类号 | G06T1/00(2006.01)I | 主分类号 | G06T1/00(2006.01)I |
代理机构 | 上海上大专利事务所(普通合伙) | 代理人 | 何文欣 |
主权项 | 1. 一种基于典型相关分析的2维矢量图的数字水印保护方法,其特征在于实施步骤为:A. 实施数字水印的嵌入流程;B. 实施数字水印的检测流程。 | ||
地址 | 200444上海市宝山区上大路99号 |