发明名称 |
含氮合金以及使用该含氮合金的荧光体制造方法 |
摘要 |
本发明涉及含氮合金以及使用该含氮合金的荧光体制造方法,所述制造方法能够工业化生产高特性、特别是高辉度的荧光体。本发明还涉及可用于该荧光体制造方法的合金粉末。本发明的制造方法包括在含氮气氛下对荧光体原料进行加热的工序,该制造方法的特征在于,其使用含有2种以上构成荧光体的金属元素的合金作为全部或部分荧光体原料,并且,在上述加热工序中,于每1分钟的温度变化在50℃以内的条件下进行加热。在使用荧光体原料用合金作为部分或全部原料来制造荧光体时,能够抑制加热处理中的急剧的氮化反应,由此能够工业化生产高特性、特别是高辉度的荧光体。 |
申请公布号 |
CN101448914A |
申请公布日期 |
2009.06.03 |
申请号 |
CN200780018264.8 |
申请日期 |
2007.05.18 |
申请人 |
三菱化学株式会社 |
发明人 |
木岛直人;渡边展;关敬一 |
分类号 |
C09K11/08(2006.01)I;C09K11/64(2006.01)I |
主分类号 |
C09K11/08(2006.01)I |
代理机构 |
北京三友知识产权代理有限公司 |
代理人 |
丁香兰;赵冬梅 |
主权项 |
1、一种荧光体制造方法,其具有在含氮气氛下对荧光体原料进行加热的工序,该制造方法的特征在于:其使用荧光体原料用合金作为荧光体原料的一部分或全部,所述荧光体原料用合金为含有2种以上构成荧光体的金属元素的合金,并且在上述加热工序中,在从低于上述荧光体原料用合金的熔点100℃的温度到低于该熔点30℃的温度的温度范围,在每1分钟的温度变化为50℃以内的条件下进行加热。 |
地址 |
日本东京 |