用于测量光刻投影设备的聚焦的方法

摘要

一种用于测量光刻投影设备的聚焦的方法，该方法包括曝光具有多个检验场的覆盖光刻胶的测试衬底。每一个检验场包括多个检验标识，并且使用预定的离焦偏置FO曝光所述检验场。在显影之后，测量对于每一个检验标识的对准偏离，并使用转置聚焦曲线将其转化成离焦数据。根据本发明的方法使得与现有的LVT相比具有高大约50倍的聚焦-对准偏移敏感度(典型的dX，Y/dZ＝20)。

主权项

1. 一种用于测量光刻投影设备的聚焦的方法，该方法包括：用光刻胶覆盖测试衬底；将所述测试衬底放置在所述光刻设备的衬底台上；曝光所述测试衬底上的多个检验场，每一所述检验场包括多个检验标识，其中，使用预定的离焦偏置FO曝光所述检验场；显影所述光刻胶；测量对于每一个所述检验标识的对准偏离；和使用转置聚焦曲线将对于每一个所述检验标识的所测量的对准偏离转置成离焦数据。