发明名称 在陶瓷基板制作小孔径镀铜贯穿孔的方法
摘要 本发明提供一种在陶瓷基板制作小孔径镀铜贯穿孔的方法,主要是于一基板上先进行凿孔、穿孔电连接等先前处理步骤后,于基板表面以溅镀方式依序形成钛层及铜层,尔后再行实施一电镀化学铜的过程,并于贴上干膜后而进行曝光、显影等步骤,随后于线路图案上镀铜以形成铜线路,完成后即剥离干膜,再依序于铜线路上镀镍及镀金,即完成金属化制程;以前述制程可使线路细直、且兼具理想导热效果、高频特性、低损失、低成本及物理性稳定等优点,同时,小口径贯穿孔的无法导通的问题,也可藉由电镀化学铜的步骤而予以完全的使之导通。
申请公布号 CN101448364A 申请公布日期 2009.06.03
申请号 CN200710167369.1 申请日期 2007.11.26
申请人 同欣电子工业股份有限公司 发明人 吕绍萍
分类号 H05K3/00(2006.01)I;H05K3/42(2006.01)I;H05K3/06(2006.01)I 主分类号 H05K3/00(2006.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人 逯长明
主权项 1、一种在陶瓷基板制作小孔径镀铜贯穿孔的方法,其包括有:一“设定贯穿孔”步骤:于陶瓷基板上进行凿孔,以为陶瓷基板的电连接作处理;一“形成钛/铜层”步骤:以溅镀方式于陶瓷基板表面依序形成一钛层以及一铜层;一“电镀化学铜”步骤:主要是利用电镀化学铜的过程中将于前述“形成钛/铜层”步骤中所形成不具有导通作用的气孔或是气泡予以完全地导通;一“贴干膜”步骤;一“图型成像”步骤:利用光罩于基板表面进行曝光、显影处理;一“形成铜线路”步骤:于基板上成像的线路图案上镀铜以形成线路;一“剥膜”步骤:用以剥离基板表面残留的干膜;一“镀镍”步骤:于铜线路上形成隔离迁移用的镍层;一“镀金”步骤:于铜线路的镍层外形成金层;及一“去除钛/铜层”步骤。
地址 台湾省台北市