图案形成方法

摘要

本发明公开了一种光掩模、使用了该光掩模的图案形成方法及光掩模数据制作方法。所要解决的课题为：在形成任意形状的图案时，让对比度和DOF提高。在透光基板100上形成通过曝光而被转移的线状主图案101。主图案101，由拥有让曝光光部分地透过的第一透光率的第一半遮光部分101A和移相器101B组成。透光基板100上主图案101的两侧，布置了构成一对的使曝光光衍射且通过曝光却不转移的辅助图案102。

主权项

1、一种图案形成方法，利用了光掩模，该光掩模具有形成在透光基板上的光掩模图案和所述透光基板上未形成所述光掩模图案的透光部分，其特征为：包括：在衬底上形成光阻膜的工序(a)；隔着所述光掩模将曝光光照射在所述光阻膜上的工序(b)；以及对将用所述曝光光照射了的所述光阻膜显像，而形成光阻图案的工序(c)；在所述光掩模中，所述光掩模图案，具有通过曝光而被转移的主图案、让所述曝光光衍射且通过曝光却不转移的辅助图案；所述主图案，由具有让所述曝光光部分地透过的第一透光率且让所述曝光光在以所述透光部分为基准的相同相位下透过的第一半遮光部分、让所述曝光光在以所述透光部分为基准的反相位下透过的移相器构成；所述辅助图案，由具有让所述曝光光部分地透过的第二透光率且让所述曝光光在以所述透光部分为基准的相同相位下透过的第二半遮光部分构成；所述辅助图案的图案宽度，小于所述主图案的图案宽度。