元件的制备方法、制备的元件、光刻装置以及器件制造方法

摘要

本发明公开了一种用于光刻装置的真空腔的元件的制备方法。该方法包括首先在所述元件上涂覆非金属、非塑料材料，接着处理涂层以固化该涂层。优选的涂覆材料是氢化倍半硅氧烷(HSQ)，可以用各种方法(喷射、涂刷、旋布)施加或用电子束加热，或用辐射。在真空环境的条件下，得到的元件极大地减少了水或烃的释气。

主权项

1. 一种制备光刻投影装置的元件的方法，以减少光刻投影装置内的释气，所述方法包括：用一种非金属材料涂覆所述元件的表面，所述材料是氢化倍半硅氧烷(HSQ)或有一个或多个烃族的倍半硅氧烷前体。