| 发明名称 | 基板处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种基板处理装置，该基板处理装置具有接口区。相邻于接口区而配置有曝光装置。接口区包括第一以及第二清洗/干燥处理单元。在第一清洗/干燥处理单元中，对曝光处理前的基板进行清洗以及干燥处理；在第二清洗/干燥处理单元中，对曝光处理后的基板进行清洗以及干燥处理。 | ||
| 申请公布号 | CN100495639C | 申请公布日期 | 2009.06.03 |
| 申请号 | CN200710001774.6 | 申请日期 | 2007.01.16 |
| 申请人 | 株式会社迅动 | 发明人 | 滨田哲也 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;H01L21/677(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人 | 徐 恕 |
| 主权项 | 1. 一种基板处理装置，相邻于曝光装置而配置，其特征在于，具有：处理部，其用于对基板进行处理；交接部，其用于在上述处理部和上述曝光装置之间进行基板的交接，上述交接部包括：第一以及第二搬送单元，其用于搬送基板；清洗处理单元，其在通过上述曝光装置进行曝光处理前对基板进行清洗处理；干燥处理单元，其在通过上述曝光装置进行曝光处理后对基板进行干燥处理；装载部，其用于暂时装载基板，上述第一搬送单元在上述处理部、上述清洗处理单元以及上述装载部之间搬送基板；上述第二搬送单元在上述装载部、上述曝光装置以及上述干燥处理单元之间搬送基板。 | ||
| 地址 | 日本国京都府 | ||