光刻装置及器件制造方法

摘要

本发明公开一种湿浸式光刻装置的基底台，包括用于收集液体的隔板。该隔板环绕基底并与基底分隔开。按照这种方式，可以收集从供液系统溢出的任何液体，并降低光刻投影装置的精密部件受污染的危险。

主权项

1. 一种光刻装置，包括：用于保持构图部件的支撑结构，所述构图部件用于给辐射光束的截面赋予图案；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投射到基底的目标部分上的投影系统；以及用于向基底的局部区域、基底台或其两者供应液体的供液系统，以至少部分地填充投影系统与基底、基底台或其两者之间的空间，其中基底台包括用于收集液体的隔板，该隔板环绕基底并与基底分隔开，其特征在于：隔板包括凹进到基底台的上表面中的槽，并且将槽的尺寸设置成可以在毛细管作用下沿着槽输送液体。