| 发明名称 | 光刻装置及器件制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种使用浸液的光刻投影装置，所述浸液位于该投影系统的最后元件和基底W之间。公开多种用于保护该投影系统、基底台和液体保持系统的部件的方法。这些方法包括在该投影系统的最后元件(20)上设置保护层，以及在该部件的上游设置牺牲保护体。还公开了由CaF<sub>2</sub>制成的由两个部件构成的最后光学元件。 | ||
| 申请公布号 | CN100495213C | 申请公布日期 | 2009.06.03 |
| 申请号 | CN200410074855.5 | 申请日期 | 2004.08.30 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | E·R·鲁普斯特拉;M·M·T·M·迪里奇斯;J·C·M·贾斯佩;H·J·M·迈杰;U·米坎;J·C·H·穆肯斯;M·里普森;T·尤特迪克;J·J·M·巴塞曼斯 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 王波波 |
| 主权项 | 1、一种光刻投影装置，具有包括最后元件的投影系统，所述光刻投影装置布置成使用投影系统将图案从构图装置投影到基底上，并且具有用浸液至少部分地填充在所述投影系统的最后元件和所述基底之间的空间的液体供给系统，其中，所述最后元件在接触所述浸液的表面上具有一基本上不溶于所述浸液的保护层，所述保护层为熔合的二氧化硅板。 | ||
| 地址 | 荷兰维尔德霍芬 | ||