发明名称 软X线发生装置及除电装置
摘要 本发明目的在发生软X线的装置中抑制发热量,从而延长寿命。在本发明中,包括电子释放部即发射器和靶的除电装置中,由粒径为2nm~100nm的钻石颗粒构成的薄膜形成在发射器的表面上。其特征在于:该薄膜在XRD测定过程中具有钻石的XRD图案,且进行了拉曼分光测定时,膜中的sp3结分量和sp2结分量之比为2.5~2.7∶1。当直流电源施加到发射器时,阈值电场强度在1V/μm以下,从发射器释放出比以往更多的电子,并且发射器的温度也几乎不上升,可实现长寿命化。
申请公布号 CN101449629A 申请公布日期 2009.06.03
申请号 CN200780012243.5 申请日期 2007.04.10
申请人 高砂热学工业株式会社;樫尾计算机株式会社;日本财团法人高知县产业振兴中心 发明人 稻叶仁;大久保义典;八木祥行;佐藤俊一;西村一仁
分类号 H05G1/00(2006.01)I;G21K1/00(2006.01)I;G21K5/00(2006.01)I;G21K5/02(2006.01)I;H01J35/06(2006.01)I;H01J35/08(2006.01)I;H05F3/06(2006.01)I 主分类号 H05G1/00(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 何欣亭;王丹昕
主权项 1. 一种软X线的发生装置,包括电子释放部和靶,其特征在于:所述电子释放部的表面由薄膜构成,该薄膜由粒径为2nm~100nm的钻石颗粒构成。
地址 日本东京都