一种等离子体加工装置

摘要

本实用新型涉及非接触法抛光技术领域，具体涉及一种等离子体加工装置。本实用新型的目的是要解决现有技术存在的抛光表面会引入外来元素，污染抛光表面，并且会因反应气体元素吸附在抛光表面，破坏抛光表面晶格完整性，易造成亚表面损伤的问题。为解决现有技术存在的问题，所提供的技术方案是：一种等离子体加工装置，包括工作室和其内部的电容耦合等离子体发生器，所述的电容耦合等离子体发生器包括进气口、射频接头和内套，所述的工作室为真空室，所述电容耦合等离子体发生器的内套外侧还依次设置有绝缘层和屏蔽层，内套、绝缘层和屏蔽层以过盈配合方式连接，在屏蔽层的外侧环设有环形磁铁，该环形磁铁通过直线移动机构联接于屏蔽层上。

主权项

1、一种等离子体加工装置，包括工作室和其内部的电容耦合等离子体发生器(10)，所述的电容耦合等离子体发生器(10)包括进气口(1)、射频接头(2)和内套(3)，其特征在于：所述的工作室为真空室(9)，所述电容耦合等离子体发生器的内套(3)外侧还依次设置有绝缘层(4)和屏蔽层(5)，内套(3)、绝缘层(4)和屏蔽层(5)以过盈配合方式连接，在屏蔽层(5)的外侧环设有环形磁铁(8)，该环形磁铁(8)通过直线移动机构(7)联接于屏蔽层(5)上。