基板处理系统及基板处理方法

摘要

本发明提供一种基板处理系统及基板处理方法。该基板处理系统包括：承载块(S1)；处理块(S2)，具有对从承载块(S1)逐块搬入的基板进行第1次涂敷处理的第一涂敷处理部(31)、进行第1次显影处理的第一显影处理部(41)、进行第2次涂敷处理的第二涂敷处理部(32)、以及进行第2次显影处理的第二显影处理部(42)；接口块(S3)，在与曝光装置之间交接基板；以及在它们之间搬运基板的基板搬运机构，可对应对一个基板进行至少两次曝光的曝光装置。

主权项

1. 一种基板处理系统，其特征在于包括：承载块，进行收容多块基板的承载器的搬入及搬出；处理部，对从承载块逐块搬入的基板进行形成包含感光材料膜的涂敷膜的涂敷处理及将以规定的曝光图案曝光的所述感光材料膜显影的显影处理；接口块，在所述处理部与将所述感光材料膜以规定的曝光图案曝光的曝光装置之间交接基板；以及基板搬运机构，在它们之间搬运基板，所述基板处理系统可对应对一个基板进行至少两次曝光的曝光装置，所述处理部包括：进行对应于第1次曝光的第1次涂敷处理的第一涂敷处理部、进行第1次显影处理的第一显影处理部、进行对应于第2次曝光的第2次涂敷处理的第二涂敷处理部、以及进行第2次显影处理的第二显影处理部。