| 发明名称 | 用于多层铜和钼的蚀刻溶液及使用该蚀刻溶液的蚀刻方法 | ||
| 摘要 | 一种用于多层铜和钼的蚀刻溶液，包含：约5％重量至约30％重量的过氧化氢；约0.5％重量至约5％重量的有机酸；约0.2％重量至约5％重量的磷酸盐；约0.2％重量至约5％重量的含氮的第一添加剂；约0.2％重量至约5％重量的含氮的第二添加剂；约0.01％重量至约1.0％重量的含氟化合物；以及使蚀刻溶液的总量为100％的去离子水。 | ||
| 申请公布号 | CN100494499C | 申请公布日期 | 2009.06.03 |
| 申请号 | CN200310118526.1 | 申请日期 | 2003.12.12 |
| 申请人 | 乐金显示有限公司 | 发明人 | 金圣秀;崔容硕;曹奎哲;蔡基成;权五南;李坰默;黄龙燮;李承庸 |
| 分类号 | C23F1/18(2006.01)I;C23F1/26(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I;H01L21/306(2006.01)I;H01L21/44(2006.01)I;H01L21/465(2006.01)I | 主分类号 | C23F1/18(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人 | 徐金国;陈 红 |
| 主权项 | 1. 一种用于其间交替设置的多个铜和多个钼层的蚀刻溶液，包含：5％重量至30％重量的过氧化氢； | ||
| 地址 | 韩国首尔 | ||