发明名称 可调沉积速率的真空镀膜机挡板
摘要 一种可调沉积速率的真空镀膜机挡板,包括一块耐高温的圆板,该圆板的圆心处垂直地连接一个转轴,该转轴的下端连接一驱动装置,其特点在于所述的圆板,自圆心辐射地划分为多个扇区,这些扇区依次为全挡区、不挡区和一个以上阻挡程度由小变大的阻挡区直至所述的全挡区,所述的不挡区是该扇区的面板被挖空,所述的全挡区是该扇区的面板完全保留,所述的阻挡区的扇区各开设有孔径由大到小,密度由密集到疏松的多个通孔,而同一扇区的通孔的孔径相同,密度均匀;所述的扇区的大小完全覆盖膜料蒸发源。本发明能有效地在不改变蒸发方法和镀膜材料蒸发速率的情况下多级调整薄膜的沉积速率,从而达到改善薄膜沉积性能的目的。
申请公布号 CN101445910A 申请公布日期 2009.06.03
申请号 CN200810204747.3 申请日期 2008.12.17
申请人 中国科学院上海光学精密机械研究所 发明人 卢宝文;徐学科;范正修
分类号 C23C14/24(2006.01)I;C23C14/04(2006.01)I 主分类号 C23C14/24(2006.01)I
代理机构 上海新天专利代理有限公司 代理人 张泽纯
主权项 1、一种可调沉积速率的真空镀膜机挡板,包括一块耐高温的圆板,该圆板的圆心处垂直地连接一个转轴,该转轴的下端连接一驱动装置,其特征在于所述的圆板,自圆心辐射地划分为多个扇区,这些扇区依次为全挡区、不挡区和一个以上阻挡程度由小变大的阻挡区直至所述的全挡区,所述的不挡区是该扇区的面板被挖空,所述的全挡区是该扇区的面板完全保留,所述的阻挡区的扇区各开设有孔径由大到小,密度由密集到疏松的多个通孔,而同一扇区的通孔的孔径相同,密度均匀;所述的扇区的大小完全覆盖膜料蒸发源。
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