| 发明名称 | 离子注入电铸结构材料及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明披露了由电铸体制成的离子注入结构材料，该电铸体通过电铸形成并具有通过将离子注入到电铸体内而形成的离子注入层。在电铸结构材料中，在比离子注入层深的位置调制了微结构，甚至在比离子注入层深的位置，硬度变得比原先的电铸体更高。 | ||
| 申请公布号 | CN100494481C | 申请公布日期 | 2009.06.03 |
| 申请号 | CN200410089649.1 | 申请日期 | 2004.10.29 |
| 申请人 | 住友电气工业株式会社 | 发明人 | 新田耕司;稻泽信二;羽贺刚 |
| 分类号 | C23C14/48(2006.01)I;G03F7/039(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/48(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 封新琴;巫肖南 |
| 主权项 | 1. 一种离子注入电铸结构材料，其由通过电铸形成的电铸体制成，该离子注入电铸结构材料具有通过将离子注入电铸体中形成的离子注入层，其中，所述电铸体是通过施加脉冲状电压形成的；所述电铸体的平均晶粒直径为1微米或小于1微米；在从离子注入电铸结构材料的表面至至多5微米深度的表面部分形成所述离子注入层；以及在比离子注入层深的位置调制离子注入电铸结构材料的微结构。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||