| 发明名称 | 改善的椭偏测量超薄膜的方法和装置 | ||
| 摘要 | 一种进行超薄膜的椭偏测量的方法，包括导向入射到样品表面上的偏振光束，接收来自所述样品表面的初始反射光束，并一次或多次再次导向所述初始反射光束返回到所述样品表面上，以产生最终的反射光束。通过检偏器在探测器处接收所述最终的反射光束，以确定所述超薄膜的特征。 | ||
| 申请公布号 | CN100494974C | 申请公布日期 | 2009.06.03 |
| 申请号 | CN200510117558.9 | 申请日期 | 2005.11.04 |
| 申请人 | 国际商业机器公司 | 发明人 | C·斯特罗基亚-里韦拉 |
| 分类号 | G01N21/21(2006.01)I;H01L21/66(2006.01)I | 主分类号 | G01N21/21(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 | 代理人 | 于 静;杨晓光 |
| 主权项 | 1. 一种进行超薄膜的椭偏测量的方法，包括以下步骤：导向入射到样品表面上的偏振光束；接收来自所述样品表面的初始反射光束，并一次或多次再次导向所述初始反射光束返回到所述样品表面上，以产生最终的反射光束；以及通过检偏器在探测器处接收所述最终的反射光束，以确定所述超薄膜的厚度或光学特性。 | ||
| 地址 | 美国纽约 | ||