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Die Erfindung betrifft eine Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, wobei die Beleuchtungseinrichtung (200, 700) im Betrieb der Projektionsbelichtungsanlage eine Objektebene (OP) eines Projektionsobjektivs (40) der Projektionsbelichtungsanlage beleuchtet und wobei die Beleuchtungseinrichtung (200, 700) derart ausgebildet ist, dass im Betrieb der Beleuchtungseinrichtung erzeugte Lichtanteile (10, 20), welche sich erst in der Objektebene (OP) überlagern, zueinander orthogonale Polarisationszustände aufweisen.
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