发明名称 |
Vorrichtung zur Positionsmessung mindestens einer Struktur auf einem Substrat |
摘要 |
Es ist eine Vorrichtung zur Positionsmessung mindestens einer Struktur (3) auf einem Substrat (2) offenbart. In einem Spiegelkörper (20a) liegt das zu vermessende Substrat (2). Eine flächige Einlage (38) ist im Spiegelkörper (20a) vorgesehen, die derart beschaffen ist, dass unabhängig von der mechanischen Dicke des Substrats (2) für das Substrat (2) und die Einlage (38) zusammen immer die gleiche optische Dicke vorliegt.
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申请公布号 |
DE102007000991(A1) |
申请公布日期 |
2009.05.28 |
申请号 |
DE200710000991 |
申请日期 |
2007.11.15 |
申请人 |
VISTEC SEMICONDUCTOR SYSTEMS GMBH |
发明人 |
EHRENBERG, TILLMANN;PIETSCH, KATRIN;ADAM, KLAUS-DIETER |
分类号 |
G01B21/04;G01B11/03;G01B11/14 |
主分类号 |
G01B21/04 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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