| 发明名称 | 模块化化学气相沉积（CVD）反应器 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种用于处理半导体基板的装置。具体地，本发明提供一种模块化处理单元。本发明的模块化半导体处理单元包括具有注入盖(213)的腔室(201)，以及被配置成通过注入盖将一种或多种处理气体提供至腔室的气体面板模块(207)，其中气体面板模块(207)邻近注入盖放置。处理单元进一步包括置于腔室下方的灯模块(203)。灯模块包括多个垂直定位的灯。 | ||
| 申请公布号 | CN101443475A | 申请公布日期 | 2009.05.27 |
| 申请号 | CN200780017561.0 | 申请日期 | 2007.06.26 |
| 申请人 | 应用材料股份有限公司 | 发明人 | B·H·伯罗斯;C·R·梅茨纳;D·L·笛玛斯;R·N·安德森;J·M·查新;D·K·卡尔森;D·M·石川;J·坎贝尔;R·O·柯林斯;K·M·马吉尔;I·阿夫扎尔 |
| 分类号 | C23C16/00(2006.01)I;H01L21/306(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 陆 嘉 |
| 主权项 | 1. 一种模块化半导体处理单元，包括：腔室，具有注入盖；气体面板模块，被配置成通过所述注入盖将一种或多种处理气体供应至所述腔室，其中所述气体面板模块邻近所述注入盖放置；以及灯模块，其置于所述腔室下方，所述灯模块具有多个垂直定位灯。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||