发明名称 高亮度空间相干微焦点X射线源
摘要 一种高亮度空间相干微焦点X射线源,包括电子束产生及控制系统和位于防辐射外壳中的X射线产生腔两部分,<1>所述的电子束产生及控制系统由电子束发生装置,电子束聚焦装置和残余电子束收集装置组成,所述的位于防辐射外壳中的X射线产生腔由入射窗,X射线透射靶,X射线出射窗构成。<2>所述的电子束发生装置,电子束聚焦装置和残余电子束收集装置,以及X射线产生腔的入射窗,X射线透射靶,X射线出射窗同轴;本发明高亮度空间相干微焦点X射线源,具有普遍适用、高相干性、高亮度、低成本、体积小和稳定性好的特点。
申请公布号 CN100492549C 申请公布日期 2009.05.27
申请号 CN200610023415.6 申请日期 2006.01.18
申请人 中国科学院上海光学精密机械研究所 发明人 喻虹;韩申生;彭卫军;张帅
分类号 G21G4/04(2006.01)I 主分类号 G21G4/04(2006.01)I
代理机构 上海新天专利代理有限公司 代理人 张泽纯
主权项 1、一种高亮度空间相干微焦点X射线源,包括电子束产生及控制系统和位于防辐射外壳中的X射线产生腔两部分,其特征在于:聚焦装置(2)和残余电子束收集装置(3)组成,所述的位于防辐射外壳中的X射线产生腔(5)由入射窗(501)、X射线透射靶(502)和X射线出射窗(503)构成;集装置(3),以及X射线产生腔(5)的入射窗(501)、X射线透射靶(502)和X射线出射窗(503)同轴;柱体金属靶材,在两端面各去掉一个圆锥体构成,两圆锥体的锥尖相接,形成X射线透射靶中央通光孔,通光孔的孔径D和通光孔的厚度L的选取范围分别为:1微米≤D≤30微米;1微米≤L≤100微米;可根据计算进行调节,所述X射线产生腔(5)的X射线透射靶(502)通光孔中心到入射平面的距离Lin和到出射平面的距离Lout也根据计算调节;光学调整架(402)上,其内部为自由空间,保持真空状态或者填入所需稀薄物质;上,且放置于X射线透射靶(502)的入射平面,入射窗(501)直径与X射线透射靶(502)的入射孔径Din大小相等;直径DX与X射线透射靶尺寸满足关系:
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