发明名称 |
高结晶品质的合成金刚石 |
摘要 |
本发明涉及单晶CVD金刚石材料,其中在大于0.014cm<sup>2</sup>的面积上由X-射线形貌术表征的扩展缺陷密度小于400/cm<sup>2</sup>。本发明还涉及制备根据前述权利要求中任一项的CVD单晶金刚石材料的方法,该方法包括选择在其上生长CVD单晶金刚石的衬底的步骤,其中该衬底具备下面中的至少一项:在大于0.014cm<sup>2</sup>的面积上由X-射线形貌术表征的扩展缺陷密度小于400/cm<sup>2</sup>;在大于0.1mm<sup>3</sup>的体积上光学各向同性小于1×10<sup>-5</sup>;和对于(004)反射的FWHM X-射线摇摆曲线宽度小于20弧秒。 |
申请公布号 |
CN101443476A |
申请公布日期 |
2009.05.27 |
申请号 |
CN200680050560.1 |
申请日期 |
2006.12.08 |
申请人 |
六号元素技术(控股)公司 |
发明人 |
D·J·特维切;G·C·萨默顿;I·弗里尔;J·O·汉森;K·B·盖;M·P·高克罗吉;P·M·玛丁内奥;R·C·伯恩斯;S·C·罗森;T·P·G·艾迪森 |
分类号 |
C23C16/27(2006.01)I;C30B25/20(2006.01)I;C30B29/04(2006.01)I;C30B25/02(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/27(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
李 帆 |
主权项 |
1. 单晶CVD金刚石材料,其中在大于0.014cm2的面积上以X-射线形貌术表征的扩展缺陷密度小于400/cm2。 |
地址 |
南非斯普林斯 |