发明名称 用于高密度静态随机存取存储器的偏压技术
摘要 根据一个实施例,本发明公开了一种存储器单元。存储器单元包括第一PMOS晶体管,耦合到所述第一PMOS晶体管的第一NMOS晶体管,第二PMOS晶体管和耦合到第二PMOS晶体管的第二NMOS晶体管。第一和第二PMOS晶体管接收偏压控制信号。
申请公布号 CN100492536C 申请公布日期 2009.05.27
申请号 CN02822313.6 申请日期 2002.11.08
申请人 英特尔公司 发明人 凯文·张;利琼·魏
分类号 G11C11/412(2006.01)I 主分类号 G11C11/412(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 代理人 王 英
主权项 1. 一种存储器单元,包括:第一P型金属氧化物半导体晶体管;耦合到所述第一P型金属氧化物半导体晶体管的第一N型金属氧化物半导体晶体管;耦合到所述第一P型金属氧化物半导体晶体管和所述第一N型金属氧化物半导体晶体管之间的第一存储节点;第二P型金属氧化物半导体晶体管;耦合到所述第二P型金属氧化物半导体晶体管的第二N型金属氧化物半导体晶体管;和耦合到所述第二P型金属氧化物半导体晶体管和所述第二N型金属氧化物半导体晶体管之间的第二存储节点;所述第一P型金属氧化物半导体晶体管和所述第二P型金属氧化物半导体晶体管接收偏压控制信号,每当所述存储器单元工作在备用模式中时,所述偏压控制信号总是向所述第一P型金属氧化物半导体晶体管和所述第二P型金属氧化物半导体晶体管传送正向偏压。
地址 美国加利福尼亚州