| 发明名称 | 研磨垫调节器及研磨垫的调节方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种研磨垫调节器，其包括底层、至少一个表面调节单元以及至少一个沟槽清除单元。表面调节单元与沟槽清除单元皆配置于底层的表面上。此外，表面调节单元与沟槽清除单元为一体成形的构形。 | ||
| 申请公布号 | CN101439496A | 申请公布日期 | 2009.05.27 |
| 申请号 | CN200710193630.5 | 申请日期 | 2007.11.23 |
| 申请人 | 力晶半导体股份有限公司 | 发明人 | 王大仁;陈顺镒;刘庆冀;张双燻 |
| 分类号 | B24B53/12(2006.01)I;B24B37/04(2006.01)I;B24B29/00(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I | 主分类号 | B24B53/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波 |
| 主权项 | 1. 一种研磨垫调节器，包括：底层；至少一表面调节单元，配置于该底层的一表面上；以及至少一沟槽清除单元，配置于该底层的该表面上，其中该表面调节单元与该沟槽清除单元为一体成形的构形。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹科学工业园区 | ||