| 摘要 |
1. Реактор для осуществления метода послойного атомного осаждения, содержащий вакуумную камеру (1), которая содержит реакционную камеру и имеет первую торцевую стенку (2), снабженную монтажным люком, вторую торцевую стенку (3), снабженную сервисным люком, боковые стенки/корпус (4), соединяющие первую и вторую торцевые стенки (2, 3), и по меньшей мере один фитинг (5) материала источника для подачи материалов источника в вакуумную камеру реактора (1), отличающийся тем, что по меньшей мере один из фитингов (5) материала источника установлен в боковой стенке/корпусе (4) вакуумной камеры (1) реактора. ! 2. Реактор по п.1, отличающийся тем, что вакуумная камера выполнена в форме куба, так что она имеет две, по существу, вертикальные боковые стенки (4), по меньшей мере одна из которых снабжена по меньшей мере одним фитингом (5) материала источника. ! 3. Реактор по п.1, отличающийся тем, что вакуумная камера выполнена в форме прямой призмы, так что она имеет две, по существу, вертикальные боковые стенки (4), по меньшей мере одна из которых снабжена по меньшей мере одним фитингом (5) материала источника. ! 4. Реактор по п.2, отличающийся тем, что вакуумная камера дополнительно имеет, по существу, горизонтальные верхнюю и нижнюю стенки по меньшей мере одна из которых снабжена фитингом источника для порошковых материалов источника. ! 5. Реактор по п.1, отличающийся тем, что вакуумная камера выполнена в форме цилиндра, так что она имеет, по существу, круглые первую и вторую торцевые стенки (2, 3) и корпус (4), снабженный по меньшей мере одним фитингом (5) материала источника. ! 6. Реактор по п.1, отличающийся тем, что фитинг или фитинги (5) материала источника расположен� |
