发明名称 |
平面显示器的制造方法 |
摘要 |
本发明涉及一种平面显示器的制造方法,其是使用相同的一道光掩膜,在显示基板上制作出接触孔及画素电极的图样,进而减少平面显示器制作过程中所需要的光掩膜数目,以达到降低生产成本的目的。 |
申请公布号 |
CN101442028A |
申请公布日期 |
2009.05.27 |
申请号 |
CN200710169743.1 |
申请日期 |
2007.11.22 |
申请人 |
中华映管股份有限公司 |
发明人 |
张纾语;刘文雄 |
分类号 |
H01L21/84(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I;H01L21/768(2006.01)I;G03F1/14(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/84(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
周国城 |
主权项 |
1、一种平面显示器的制造方法,应用于一具有一金属层、一绝缘层及一介电层的显示基板,该绝缘层位于该金属层及该介电层之间,其特征在于,该制造方法包括下列步骤:于该显示基板上形成一第一光刻胶层;利用一光掩膜对该第一光刻胶层进行一第一曝光工艺,以在该显示基板上形成一第一区域、一第二区域及一第三区域;移除该第一区域的部分该第一光刻胶层;刻蚀该第一区域的部分该介电层;移除该第一光刻胶层;于该显示基板上形成一电极材料层;于该电极材料层上形成一第二光刻胶层;利用该光掩膜对该第二光刻胶层进行一第二曝光工艺;移除该第三区域的部分该第二光刻胶层;刻蚀该第三区域的部分该电极材料层;以及移除剩下的该第二光刻胶层。 |
地址 |
台湾省台北市 |