发明名称 一种投影光学系统
摘要 一种投影光学系统,其特征在于,所述光学系统包括:一个光轴;一个凹面球面反射镜;一对棱镜,每一个棱镜都具有相应的第一和第二平面,第二平面与第一平正透镜的平面按照与光轴相反的方向紧密接触,而第一平面则分别朝向物方平面和像方平面;一个正透镜组,由一个平凸透镜和一个弯月透镜组成,凸面朝向反射镜;一个望远透镜组,由一个凹凸透镜,一个双凸透镜和一个双凹透镜组成;一个凹面反射镜,凹面朝向物方;本发明可以增加光刻机投影光学系统的工作距离,为工件台和掩模台提供较大的设计空间,另外可以进一步减小设备的体积。
申请公布号 CN100492175C 申请公布日期 2009.05.27
申请号 CN200610028605.7 申请日期 2006.07.04
申请人 上海微电子装备有限公司 发明人 刘国淦;蔡燕民
分类号 G03F7/20(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 上海智信专利代理有限公司 代理人 王 洁
主权项 1、一种投影光学系统,其特征在于,所述光学系统包括:一个光轴;一个凹面球面反射镜;一组具有正光焦度的透镜组,与所述凹面球面反射镜间隔一定的距离;按照离反射镜从远到近的距离排列,其特征在于该透镜组包括:一对棱镜,每一个棱镜都具有相应的第一和第二平面,两个第一平面则分别朝向物方平面和像方平面;一个正透镜组,由一个平凸透镜和一个弯月透镜组成,所述平凸透镜的平面与所述棱镜的第二平面紧贴,凸面朝向反射镜;一个望远透镜组,由一个凹凸透镜,一个双凸透镜组成的正透镜和一个双凹负透镜组成,并按照离反射镜从远到近的距离排列。
地址 201203上海市张江高科技园区张东路1525号