发明名称 APPARTUS OF PLASMA PROCESSING FOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号 KR100899768(B1) 申请公布日期 2009.05.27
申请号 KR20070100933 申请日期 2007.10.08
申请人 发明人
分类号 H01L21/3065;H01L21/304 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
主权项
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