发明名称 用于压力机滑动构件的支承装置
摘要 一种具有至少一细长立柱的压制系统。滑动件由立柱在缩回位置和伸出位置之间引导。第一导向组件作用在滑动构件和立柱之间。第一导向组件具有a)第一支承组件,包括在滑动构件和立柱之一上的第一支承壳,相对第一支承壳导向运动的第一支架,以及相对第一支架导向运动的第一滚子件,压靠在滑动件和立柱的另一个上的第一表面上以便当滑动件在缩回和伸出位置之间运动时引导在滑动件和框架之间的运动,b)第二支承组件,包括在滑动件和立柱之一上的第二支承壳,相对第二支承壳导向运动的第二支架,以及相对第二支架导向运动的第二滚子件,压靠在第二表面上,第二表面i)第二支承壳位于框架上时在滑动件上,ii)第二支承壳位于滑动件上时在框架上。
申请公布号 CN100491114C 申请公布日期 2009.05.27
申请号 CN02150499.7 申请日期 2002.11.15
申请人 相田工程株式会社 发明人 E·J·布热滋尼克;M·S·佩克萨;J·华盛顿
分类号 B30B15/28(2006.01)I 主分类号 B30B15/28(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 蔡民军;黄力行
主权项 1. 一种压制系统,它包括:一框架,它包括至少一细长立柱;一滑动构件,它由所述至少一立柱在一缩回位置和一伸出位置之间进行引导;以及一第一导向组件,它作用在所述滑动构件和所述一立柱之间;所述第一导向组件包括:a)一第一支承组件,它包括一在所述滑动构件和所述一立柱之一上的第一支承壳,一当所述滑动构件在所述缩回位置和所述伸出位置之间运动时可围绕一第一轴线相对于所述第一支承壳导向运动的第一支架,一安装在所述第一支架上并可绕一第二轴线相对于所述第一支架导向运动的第一滚子构件,以及一安装在所述第一支架上并可绕一第三轴线相对于所述第一支架导向运动的第二滚子构件,所述第一和第二滚子构件压靠在所述滑动构件和所述一立柱的另一个上的一第一表面以便当所述滑动构件在所述缩回和所述伸出位置之间运动时引导所述滑动构件和所述框架之间的运动,以及b)一作用在所述滑动构件和所述框架之间以便引导所述滑动构件和所述框架之间的相对运动的第二支承组件,所述第二支承组件包括一第二支承壳,一可相对于所述第二支承壳作导向运动的第二支架,以及一可相对于所述第二支架作导向运动的第三滚子构件。
地址 日本神奈川县