发明名称 |
用于处理衬底的装置 |
摘要 |
一种用于处理衬底的装置,包括提供用于处理衬底的空间的腔;设置在所述腔内且沿着第一方向延伸的至少一个第一供给线路,该第一供给线路允许进入所述第一供给线路的两端部的处理液体由此流过;与所述第一供给线路连通的喷洒器,该喷洒器朝所述衬底延伸,并所述处理液体提供至所述衬底上;以及驱动单元,该驱动单元利用非接触方式摆动所述第一供给线路,以在大体垂直于所述第一方向的第二方向摆动所述喷洒器。因此,所述装置可以均匀地将所述处理液体提供至所述衬底。 |
申请公布号 |
CN101441989A |
申请公布日期 |
2009.05.27 |
申请号 |
CN200810176806.0 |
申请日期 |
2008.11.21 |
申请人 |
细美事有限公司 |
发明人 |
朴奇洪 |
分类号 |
H01L21/00(2006.01)I;B08B3/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/00(2006.01)I |
代理机构 |
上海恩田旭诚知识产权代理有限公司 |
代理人 |
尹洪波 |
主权项 |
1、一种用于处理衬底的装置,该装置包括:腔,该腔为处理衬底提供空间;设置在所述腔内且沿着第一方向延伸的至少一个第一供给线路,该第一供给线路允许进入所述第一供给线路的两端部内的处理液体流过;与所述第一供给线路连通的喷洒器,该喷洒器朝所述衬底延伸,并为所述衬底提供所述处理液体;以及驱动单元,该驱动单元利用非接触方式摆动所述第一供给线路,以在大体垂直于所述第一方向的第二方向摆动所述喷洒器。 |
地址 |
韩国忠南天安市西北稷山邑毛枾里278番地 |