发明名称 |
用硅湿法刻蚀和键合工艺制备相变存储器的方法 |
摘要 |
本发明涉及一种用低温键合和硅湿法刻蚀工艺制作相变随机存储器,其工艺步骤为:(1)清洗氧化硅片,依次沉积30nm Ti或TiN,100nm的Pt或Au。(2)将(100)硅片清洗干净,然后再与步骤(1)中的Pt或Au键合,再将键合之后的(100)硅片进行减薄和抛光。(3)在硅片上热氧化出SiO<sub>2</sub>,在SiO<sub>2</sub>上光刻成图形然后刻蚀掉图形下SiO<sub>2</sub>。(4)用刻蚀液对(100)硅片刻蚀,形成V型结构。(5)对形成的V型干氧氧化。(6)沉积相变材料,用化学机械抛光去除V型结构以外的相变材料。(7)再次光刻,沉积顶电极。在微米级的加工工艺条件下,实现了纳米相变存储器的单元器件。测试结果表明,单元器件的阈值电压电流都达到了实现可逆相变的目的。 |
申请公布号 |
CN100492695C |
申请公布日期 |
2009.05.27 |
申请号 |
CN200610027008.2 |
申请日期 |
2006.05.26 |
申请人 |
中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
发明人 |
宋志棠;刘奇斌;封松林 |
分类号 |
H01L45/00(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01L45/00(2006.01)I |
代理机构 |
上海智信专利代理有限公司 |
代理人 |
潘振甦 |
主权项 |
1、一种用硅湿法刻蚀和键合工艺制作相变随机存储器的方法,其特征在于制作的工艺步骤为:(1)清洗氧化硅片,依次沉积20~50nm Ti或TiN和100nm的Pt或Au;(2)将(100)硅片清洗干净,然后再与步骤(1)中的Pt或Au键合,再将键合之后的(100)硅片先进行减薄,然后化学机械抛光;(3)在抛光后的硅片上热氧化出SiO2,在SiO2上光刻成图形然后刻蚀掉图形下SiO2;(4)用刻蚀液对(100)硅片刻蚀,形成V型结构;(5)对形成的V型结构干氧氧化;(6)沉积相变材料,用化学机械抛光去除V型结构以外的相变材料;(7)再次光刻,沉积顶电极。 |
地址 |
200050上海市长宁区长宁路865号 |