发明名称 Fest haftende siliciumnitridhaltige Trennschicht
摘要 <p>Die Erfindung betrifft eine Schlichte zur Herstellung einer dauerhaften, fest haftenden Trennschicht Feststoffteilchen, wobei die Feststoffteilchen 67-95 Gew.-% Siliciumnitrid und 5-33 Gew.-% eines SiO2-basierten Hochtemperaturbindemittels umfassen, wobei das SiO2-basierte Hochtemperaturbindemittel aus SiO2-Vorstufen abgeleitet ist und durch Temperaturbehandlung in einem Temperaturbereich von 300-1300°C vorbehandelt worden ist. Ferner betrifft die Erfindung Formkörper aus einem Substrat mit einer dauerhaften, fest haftenden Trennschicht sowie Verfahren zu deren Herstellung. Die erfindungsgemäßen Formkörper eignen sich auf dem Gebiet der korrosiven Nichteisenmetallschmelzen.</p>
申请公布号 DE102007053284(A1) 申请公布日期 2009.05.20
申请号 DE20071053284 申请日期 2007.11.08
申请人 ESK CERAMICS GMBH & CO. KG 发明人 UIBEL, KRISHNA
分类号 C04B41/87;B22C3/00;C04B35/584;C09D1/00 主分类号 C04B41/87
代理机构 代理人
主权项
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