发明名称 纳米胶体射流抛光装置
摘要 纳米胶体射流抛光装置,它涉及一种射流抛光装置。本发明解决了现有的纳米胶体射流抛光过程中存在的纳米胶体易被污染、纳米胶体的喷射能量难以控制、自由基—羟基与工件表面原子的化学吸附难以实现、胶体中纳米颗粒与工件表面原子发生的可逆聚合分解反应难以保证和工件表面的纳米颗粒及工件表面原子无法利用流体黏附作用移除的问题。本发明的第一柔性密封囊安装在第一高压容器内,第四管路的下端与第一柔性密封囊的上端连通,第四管路的上端与第一两位三通控制阀连通,封闭的纳米胶体容器与第一两位三通控制阀连通,蠕动泵安装在第五管路上。本发明实现了压力油与纳米胶体的独立循环,喷射能量得到控制,移除了工件表面的纳米颗粒及工件表面原子。
申请公布号 CN101434055A 申请公布日期 2009.05.20
申请号 CN200810209767.X 申请日期 2008.12.24
申请人 哈尔滨工业大学 发明人 张飞虎;宋孝宗;张勇
分类号 B24C5/00(2006.01)I;B24B29/00(2006.01)I 主分类号 B24C5/00(2006.01)I
代理机构 哈尔滨市松花江专利商标事务所 代理人 张果瑞
主权项 1、一种纳米胶体射流抛光装置,它包括第一两位三通控制阀(1)、第一柔性密封囊(24)、第一高压容器(23)、第四两位三通控制阀(6)、蓄能器(7)、柱塞泵(8)、液压油箱(9)、封闭的纳米胶体容器(10)、蠕动泵(11)、抛光液槽(18)、喷嘴(19)、阀体(26)、第一管路(31)、第二管路(32)、第三管路(33)、第四管路(34)、第五管路(35)、第六管路(36)和第七管路(37),其特征在于:所述第一柔性密封囊(24)安装在第一高压容器(23)内,所述第四管路(34)的下端穿过第一高压容器(23)与第一柔性密封囊(24)的上端连通,所述第四管路(34)的上端与第一两位三通控制阀(1)连通,所述封闭的纳米胶体容器(10)通过第五管路(35)与第一两位三通控制阀(1)连通,所述蠕动泵(11)安装在第五管路(35)上且与第五管道(35)连通,所述第一高压容器(23)的下端通过第三管路(33)与第四两位三通控制阀(6),所述液压油箱(9)通过第一管路(31)与第四两位三通控制阀(6)连通,所述第二管路(32)的下端安装在液压油箱(9)内,第二管路(32)的上端与第四两位三通控制阀(6)连通,所述蓄能器(7)通过阀体(26)安装在第二管路(32)上且与第二管路(32)连通,所述柱塞泵(8)安装在第二管路(32)上,柱塞泵(8)与第二管路(32)连通,且所述柱塞泵(8)位于蓄能器(7)的下方,所述第六管路(36)的一端与第一两位三通控制阀(1)连通,所述第六管路(36)的另一端与第七管路(37)的一端连通,所述第七管路(37)的另一端安装有喷嘴(19),且所述第七管路(37)与数控机床的夹具(22)固接,所述抛光液槽(18)套装在数控机床的电机(16)的输出轴上,所述工作台(17)安装在抛光液槽(18)内的数控机床的电机(16)输出轴的端面上,且工作台(17)的安装位置与喷嘴(19)相对应。
地址 150001黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号
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