发明名称 |
半导体装置及其制造方法、液晶电视和EL电视 |
摘要 |
公开了一种半导体装置的制造方法,其通过少量工艺和通过具有高可用性材料的手段,以具有高清晰度和具有高阶梯覆盖特性的栅绝缘来实现。根据本发明,半导体装置的制造方法包括如下步骤:在基板之上形成多个第一导电层;形成第一绝缘层以填充多个第一导电层的间隙;在第一绝缘层和多个第一导电层之上形成第二绝缘层;以及在第二绝缘层之上形成半导体区和第二导电层。 |
申请公布号 |
CN100490055C |
申请公布日期 |
2009.05.20 |
申请号 |
CN200510071693.4 |
申请日期 |
2005.03.25 |
申请人 |
株式会社半导体能源研究所 |
发明人 |
前川慎志 |
分类号 |
H01L21/00(2006.01)I;H01L21/84(2006.01)I;G02F1/136(2006.01)I;G09F9/30(2006.01)I;G09G3/36(2006.01)I;G09G3/38(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/00(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
刘 红;张志醒 |
主权项 |
1. 一种半导体装置的制造方法,包括如下步骤:在基板之上形成至少两个第一导电层;形成第一绝缘层以填充第一导电层的间隙;在第一绝缘层之上形成第二绝缘层并且与第一导电层接触;在第二绝缘层之上形成半导体区,并且在半导体区之上形成第二导电层,其中第二导电层用作源电极和漏电极,和其中形成第一绝缘层,使得第一导电层的厚度大于第一绝缘层的厚度,第一绝缘层的厚度b和第一导电层的厚度a的比b/a大于等于0.7且小于等于1。 |
地址 |
日本神奈川县厚木市 |