| 发明名称 | 扫描清洗装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及半导体晶片加工过程中对晶片清洗的技术，具体地说是一种实现对晶片表面进行清洗的扫描清洗装置，可解决传统的清洗结构喷射角度、位置固定而容易产生死角等问题。该装置设有喷嘴马达、主轴马达、承片台、喷嘴、喷嘴轴、喷嘴臂，喷嘴臂一端安装于喷嘴马达的喷嘴轴上，喷嘴臂另一端连有喷嘴，主轴马达的主轴上安装有承片台，喷嘴与承片台上的晶片相对应。本发明通过在清洗过程中对喷头位置的控制以及晶片旋转的特点，采用喷水旋转扫描清洗的方式，可以最大限度的满足清洗需要，实现对晶片表面做有效清洗的目的，即将晶片表面的微粒全部清除。 | ||
| 申请公布号 | CN101436521A | 申请公布日期 | 2009.05.20 |
| 申请号 | CN200710158321.4 | 申请日期 | 2007.11.16 |
| 申请人 | 沈阳芯源微电子设备有限公司 | 发明人 | 侯宪华;张军 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;H01L21/30(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 | 代理人 | 张志伟 |
| 主权项 | 1. 一种扫描清洗装置，其特征在于：该装置设有喷嘴马达(1)、主轴马达(2)、承片台(3)、喷嘴(7)、喷嘴轴(10)、喷嘴臂(11)，喷嘴臂(11)一端安装于喷嘴马达(1)的喷嘴轴(10)上，喷嘴臂(11)另一端连有喷嘴(7)，主轴马达(2)的主轴上安装有承片台(3)，喷嘴(7)与承片台(3)上的晶片(12)相对应。 | ||
| 地址 | 110168辽宁省沈阳市浑南新区飞云路16号 | ||