发明名称 用于ALD和CVD的批式处理平台
摘要 用于ALD或CVD制程的批式处理平台具有高产量和最小占据面积。在一实施例中,处理平台包含一大气传送区、至少一个具有缓冲室与架台的批式处理室、和一置于传送区内的传送机械装置,其中传送机械装置具有至少一个含有多个基板搬运叶片的基板传送臂。平台可包括二个批式处理室,二者之间配有维修道,供进入传送机械装置与沉积站进行维修之用。在另一实施例中,处理平台包含至少一个批式处理室、一用来传送基板于FOUP与处理匣之间的基板传送机械装置、和一含有匣搬运机械装置的匣传送区。匣搬运机械装置可为线性促动器或旋转桌。
申请公布号 CN101438387A 申请公布日期 2009.05.20
申请号 CN200780016128.5 申请日期 2007.06.15
申请人 应用材料股份有限公司 发明人 A·韦伯;A·布莱劳弗;J·约德伏斯基;N·梅里;A·康斯坦特;E·奎尔斯;M·R·赖斯;G·J·罗森;V·沙哈
分类号 H01L21/20(2006.01)I;C23C16/00(2006.01)I 主分类号 H01L21/20(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 代理人 陆 嘉
主权项 1. 一种基板处理设备,该设备至少包含:基板处理室;缓冲室,设置邻接该基板处理室;处理匣,以第一间距支撑二个以上的基板,其中该处理匣可在该缓冲室与该基板处理室之间传送;架台匣,以该第一间距支撑二个以上的基板;以及传送机械装置,利用单一基板搬运叶片在基板传送盒与该架台匣之间传送基板,及利用多个基板搬运叶片在该架台匣与该处理匣之间传送多个基板。
地址 美国加利福尼亚州