发明名称 GaN基III-V主族化合物半导体器件和p型电极
摘要 本发明披露p型电极和使用它的III-V主族GaN基化合物半导体器件。该电极包括第一层和第二层,所述第一层位于III-V主族氮化物半导体层之上,并由含溶质的Zn基材料形成;所述第二层层叠在所述第一层之上,并由选自Au、Co、Pd、Pt、Ru、Rh、Ir、Ta、Cr、Mn、Mo、Tc、W、Re、Fe、Sc、Ti、Sn、Ge、Sb、Al、ITO和ZnO中的至少一种形成。该Zn基p型电极具有优选的电性能、光学性能和热性能。
申请公布号 CN100490078C 申请公布日期 2009.05.20
申请号 CN200410087995.6 申请日期 2004.10.26
申请人 三星电子株式会社;光州科学技术院 发明人 郭准燮;成泰连;南玉铉;宋俊午;林东皙
分类号 H01L21/28(2006.01)I;H01L29/45(2006.01)I;H01L33/00(2006.01)I;H01S5/00(2006.01)I 主分类号 H01L21/28(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 张平元;赵仁临
主权项 1. III-V主族GaN基化合物半导体器件的电极,所述电极包括:第一层,所述第一层位于III-V主族氮化物半导体层之上,并由含溶质的Zn基材料形成,其中包含在所述Zn基材料内的溶质量在0.1~49.9原子百分比的范围内;第二层,所述第二层层叠在所述第一层之上,并由选自Co、Ir、Ta、Cr、Mn、Mo、Tc、W、Re、Fe、Sc、Sn、Ge、Sb、Al、ITO、ZITO、ZIO、GIO、ZTO、FTO、AZO、GZO、In4Sn3O12和Zn1-xMgxO中的至少一种形成,其中0≤x≤1;及位于所述第一层和第二层之间的中间层,该中间层由选自Co、Pd、Pt、Ru、Rh、Ir、Ta、Cr、Mn、Mo、Tc、W、Re、Fe、Sc、Ti、Sn、Ge和Sb中的至少一种形成,其中该中间层与所述第一层和第二层接触。
地址 韩国京畿道
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