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发明名称 METHOD FOR FORMING CONTACT IN SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 KR100898581(B1) 申请公布日期 2009.05.20
申请号 KR20070087657 申请日期 2007.08.30
申请人 发明人
分类号 H01L21/28;H01L21/60;H01L21/768 主分类号 H01L21/28
代理机构 代理人
主权项
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