发明名称 |
Vorrichtung und Verfahren zur positionsgenauen Halterung eines Substrats |
摘要 |
<p>Es sind eine Vorrichtung und ein Verfahren zur positionsgenauen Halterung eines Substrats (2) offenbart. Das Substrat (2) ist in einen Tisch (20) gelegt, der in einer Ebene in zwei senkrecht zueinander stehenden Raumrichtungen verfahrbar ausgebildet ist. Das Substrat (2) liegt auf drei punktförmig ausgebildeten Halteelementen (35) auf. Dabei ist mindestens eines der Halteelemente (35) in der Ebene beweglich ausgestaltet.</p> |
申请公布号 |
DE102007000990(A1) |
申请公布日期 |
2009.05.20 |
申请号 |
DE20071000990 |
申请日期 |
2007.11.15 |
申请人 |
VISTEC SEMICONDUCTOR SYSTEMS GMBH |
发明人 |
EHRENBERG, TILLMANN;PIETSCH, KATRIN;ADAM, KLAUS-DIETER |
分类号 |
G12B5/00;G01B11/03;G01B21/04 |
主分类号 |
G12B5/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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